PVD镀铬技术主要采用电弧-溅射技术，利用阴阳极之间的放电离化氩气，使氩离子在作为阴极的靶材电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶原子，中性的靶原子或离子沉积在基片上，形成固体薄膜。本项目在上述原理的基础上进行改进和新技术开发，采用改进的电弧-溅射技术提高靶功率密度，采用等离子体源增强技术提高镀膜室的等离子体密度，从而开发出环保.......