大家知道PVD镀膜靶材是什么吗?　　物理气体相沉积(PVD镀膜)薄膜制备技术,用于真空条件下将靶材的表面物理汽化为气态原子，分子或部分离子化为离子。然后通过低压气体(或等离子体)将具有特定功能的膜沉积在原材料的表面上。物理气相沉积的主要方法：包括真空蒸发，溅射沉积，电弧等离子镀等。PVD膜沉积速度非常快，附着力强，衍射性好，应用范围广。