PVD真空镀膜技术特点是膜层附着性能好：普通真空镀膜时，在工件表面与镀层之间几乎没有连接的过渡层，好似截然分开。而离子镀时，离子高速轰击工件时，能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米...

PVD真空镀膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，对比较软的锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬，然后才适合镀PVD，但是水镀后做PVD容易起泡...