真空CDLC膜层又称类金刚石膜层，其原理是属于PVD联合化学气相沉积的过程，是利用气态物质通过化学反应在基片表面形成固态薄膜的一种成膜技术。真空CDLC膜层沉积的三个阶段：1）反应气体向基体表面扩散 2）反应气体吸附于基体表面3）在基体表面上发生化学反应形成固态沉积物及产生的气相副产物脱离基体表面。

CDLC膜层又称类金刚石膜层，是通过PVD技术实现的一种硬膜工艺，之所以称为类金刚石膜层，其一是因为此膜层的主要成分和金刚石有共同点，其次是CDLC膜层的硬度和抗刮伤效果也可以媲美金刚石。