深圳森丰真空镀膜有限公司

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  • 真空溅射镀膜的优缺点

    真空溅射镀膜的优缺点 2022-08-12 14:31:59 【文章】

    真空溅射镀膜是用几十电子伏或更高动能的荷能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够高的能量而溅出进入气相，这种溅出的、复杂的粒子散射过程称为溅射。真空溅射镀膜就是利用溅射现象实现制取各种薄膜...
  • 如何区分真空溅射镀膜和蒸发镀？

    如何区分真空溅射镀膜和蒸发镀？ 2022-08-08 08:00:00 【文章】

    真空溅射镀膜是一种物理镀膜的方法，需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片...
  • 离子镀与蒸镀和溅射镀的根本区别是什么

    离子镀与蒸镀和溅射镀的根本区别是什么 2022-07-12 12:17:47 【文章】

    真空溅镀，是真空溅射镀膜的简称，是一种物理镀膜的方法。真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很...
  • 真空溅射镀膜是什么？

    真空溅射镀膜是什么？ 2022-07-07 10:36:45 【文章】

    真空溅射镀膜是通过离子碰撞而获得薄膜的一种工艺，主要分为两类：阴极溅镀和射频溅镀。阴极溅镀一般用于溅镀导体如铝，银或半导体如硅。射频溅镀一般用于溅镀非导体如ZnS一SiO2RW格式用镀层...
  • 真空溅射膜层的特点

    真空溅射膜层的特点 2022-06-02 10:10:48 【文章】

    真空溅射膜层的厚度控制在预定的数值上，称为膜厚的可控性。所需要的膜层厚度可以多次重复性出现，称为膜厚重复性。在真空溅射镀膜中，可以通过控制靶材电流来控制膜厚。溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级，高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的能量，增强了溅射原子与基片的附着力......
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