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  • 真空溅射膜层的特点

    真空溅射膜层的特点 2022-06-02 10:10:48 【文章】

    真空溅射膜层的厚度控制在预定的数值上，称为膜厚的可控性。所需要的膜层厚度可以多次重复性出现，称为膜厚重复性。在真空溅射镀膜中，可以通过控制靶材电流来控制膜厚。溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级，高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的能量，增强了溅射原子与基片的附着力......