真空涂层技术是真空应用技术的重要组成部分，是许多前沿学科发展的基础技术之一，也是当今信息时代许多高科技发展的重要手段。真空涂层技术和设备在当今和未来具有广阔的应用领域和发展前景，特别是制造大型集成电路的电学膜：数字垂直和水平磁化数据记录存储膜：能够充分展示和应用各种光学特性的光学膜；计算机显示......

真空涂层技术起步时间并不长，上世纪七十年代末开始出现PVD真空镀膜技术，之后的二三十年间PVD真空镀膜技术得到迅猛发展。今天小编与大家一起了解一下PVD真空镀膜的一些基本概念。首先什么是PVD，PVD即物理气相沉积，是指在真空条件下用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。分为真空蒸发镀膜、真空离子......

PVD真空涂层技术起步时间不长，上世纪七十年代末，开始出现PVD(物理气相沉积)真空涂层技术，为真空涂层开创了一个充满灿烂前景的新天地，之后在短短的二、三十年间PVD真空涂层技术得到迅猛发展，如今在这一领域中，已呈现出百花齐放，百家争鸣的喜人景象。那么如何鉴别PVD真空涂层的质量呢？这也是许多客户关注的焦点。