真空镀膜 是制造光学和装饰薄膜的常用技术，然而，有时镀膜面可能会出现不光滑的现象。这可能是由于以下几个原因：

1.基材的表面处理不当：在镀膜前，基材表面必须彻底清洁，以防止残留物或污染物影响镀膜质量。如果基材表面有残留物、划痕、纹理或其他缺陷，那么镀膜面就可能出现不光滑的现象。

2. 真空室内的污染：真空室内的清洁程度对镀膜面的光滑度有很大的影响。如果真空室内有灰尘、杂质或其他污染物，它们可能会附着在基材表面，导致镀膜面不光滑。

3.蒸发源的清洁度：蒸发源的清洁度也是影响镀膜面光滑度的因素之一。如果蒸发源上有残留物、污垢或其他污染物，那么它们可能会在镀膜过程中污染基材表面，导致镀膜面不光滑。

4. 镀膜工艺参数不当：镀膜工艺参数如蒸发速率、溅射功率、气体流量等不当，都可能影响镀膜面的光滑度。如果这些参数设置不当，就可能导致镀膜面出现不均匀、颗粒状或不光滑的现象。

总之，要解决真空镀膜 面不光滑的问题，需要从基材表面处理、真空室清洁、蒸发源清洁和镀膜工艺参数等方面入手，确保每个环节都得到良好的控制和管理。