PVD物理气相沉积涂层是我们最常用的真空镀膜工艺。将要涂层的零件放置在真空室内。将用作涂层的固体金属靶材在真空下蒸发。来自汽化金属的原子以接近光速的速度运动，并嵌入真空室的零件表面。为了确保物体的正确区域被覆盖，在PVD过程中，零件被小心地定位和旋转。

　　溅射是另一种PVD涂层，用于在物体上沉积导电或绝缘材料涂层。在溅射过程中，使用电离气体烧蚀或缓慢去除目标材料上的金属。烧蚀后的金属通过真空室，覆盖在目标上方或下方的所需部位。阴极电弧是一种PVD方法，它使用电弧放电蒸发材料，如氮化钛、氮化锆或银等。蒸发的物质覆盖在真空室中的零件上。

　　原子层沉积对于硅涂层和复杂尺寸的医疗器械非常有用。通过交替室内的化学物质，涂层的化学成分和厚度可以用原子精密度来控制。这意味着它可以提供最完整的涂层类型之一，即使对于尺寸非常复杂的零件。

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