在真空镀膜 过程中，表面不光滑是一个常见的问题。这可能由多种因素引起，如真空度不足、气体流动不均匀、基材材料质量不佳、基片温度不均匀等。

首先，真空度不足是导致镀膜表面不光滑的主要原因。在真空镀膜过程中，环境内的气压过低会导致气体流动不均匀，从而影响膜层的平整度。其次，基材的表面光洁度也是影响膜层光滑度的关键因素。再者，如果基材纯度不够，可能就会在膜层中形成颗粒或者气泡，导致表面不光滑。最后，基材温度的均匀性也会对膜层的平整度产生影响。

总的来说，真空镀膜表面不光滑的原因有很多，森丰真空镀膜会根据具体情况进行分析和调整。通过优化工艺参数，选择合适的镀膜材料，以及保证设备的正常运行等提升真空镀膜 表面的光滑度，如果您有真空镀膜加工需求，欢迎您来森丰洽谈或拨打18018743855。