pvd真空电镀的原理主要有哪些呢？接下来由武汉PVD镀膜厂带您了解一下。

pvd真空电镀的基本原理主要是物理学气相沉积，是当今国际上广泛运用的先进的表面处理技术。其原理便是在真空条件下，利用气体放电使汽体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用下把蒸发物或其生成物沉积在基材上。

pvd真空电镀具备沉积速度更快和表层清洁的特性，尤其具备膜层粘合力强、绕性好、可镀材料普遍等优势。 选用全球先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺技术，及在这个基础上与国际专家的工艺自主创新。凭借在装饰镀领域二十多年的可贵工作经验，为客人给予合适的金属涂层生产加工计划方案。

pvd真空电镀抗氧化，耐腐蚀，抗腐蚀，化学性能稳定，抗酸。手机壳PVD镀膜，镀膜外壳容易消除油漆和指纹。在强烈的阳光，咸的湿地和城市环境下，都不失去光泽，不氧化，不退色，不掉膜。可镀材料普遍，与基材结合性强。

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