蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等，不同的PVD真空镀膜 两大类工艺中影响膜层均匀性的因素主要有哪些呢？

一、对于蒸发镀膜：一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉积在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。厚度均匀性主要取决于：1.基材与靶材的晶格匹配程度、2.基片表面温度、3.蒸发功率，速率、4.真空度、5.镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同厚度均匀性，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性：1.晶格匹配度、2.基片温度、3.蒸发速率

二、对于溅射类镀膜：可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率为主要参数之一。

PVD真空镀膜 因工艺的不同影响膜层均匀性的因素也不相同，如您有镀膜相关的问题需要咨询，欢迎致电咨询：18018742966。