PVD镀膜整个过程分为三个步骤：1、膜材的蒸发过程，需要确立条件：膜材料的蒸发温度，膜材蒸发的最佳蒸汽压：膜材料的蒸发速率。2、膜材料所蒸发逸出粒子的迁移，所需确立条件：在镀膜过程中，要保持真空室内的真空度一直高于10-2Pa，真空度应该是一个适宜的固定值，并不是越高越好。3、逸出的粒子到达基片表面成膜的过程，所需确立条件：适当提高蒸发速率有利于形成纯净的膜。

2、在气体中，热传导和压强成正比，热电偶真空计将这一原理运用到测量中来，真空计内有部分气体，加热的电阻丝在真空计中对气体进行加热，电阻丝会产生热量并且将热量辐射给真空计内的气体，气体的压越强高接受电阻丝的辐射热也就越多。

3、气体经过电离时被电离成带电的气体离子，能产生大量的离子流，离子流的定向移动会产生电流，通过建立电流与真空度的关系后，再对真空计中电流进行测量就能间接得到真空度，电离真空计性能很好，所以被用于超高真空的测量。如有想了解深圳PVD镀膜，欢迎致电：18018743855  0755-27865425