PVD镀铬 技术主要采用电弧溅射技术，利用阴阳极之间的放电离化氩气，使氩离子在作为阴极的靶材电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶原子，中性的靶原子或离子沉积在基片上，形成固体薄膜。本项目在上述原理的基础上进行改进和新技术开发，采用改进的电弧-溅射技术提高靶功率密度，采用等离子体源增强技术提高镀膜室的等离子体密度，从而开发出环保、高效的快速PVD镀铬新技术。PVD真空镀铬的优势有以下几个方面：

1、完全无污染的生产工艺过程：在涂层前处理中，采用环保型的金属清洗剂对工件表面进行去油和脱脂处理，烘干后工件放入真空室中进行PVD镀铬处理。镀铬过程以高纯金属铬为原料，通入氮气和氩气等瓶装气体，在沉积铬复合涂层的专用设备中，采用先进的等离子体源辅助电弧-溅射等先进技术，通过电场、磁场、等离子体和离子束流的作用，发生化学反应，实现了铬复合涂层的生成。使用的原材料价廉易得，国内可以大量供应。在整个工艺生产过程中，没有采用任何有毒有害的原料，是完全无污染的绿色环保生产技术。

2、优良的基体材料适应性：由于PVD镀铬 装置能够提供较高的等离子体密度和靶功率密度，所制备涂层膜-基附着力强，可以在不同衬底材料上(钢、有色金属、陶瓷)制备各类金属和合金。而电镀方法对于不同基材需要不同的处理工艺。对制备不同的涂层材料，PVD技术只需要更换靶材，而化学方法制备不同材料需要一系列复杂的配方和前处理工艺。

3、优越的涂层性能：与电镀铬相比，PVD镀铬涂层的硬度更高。电镀铬的硬度一般为Hv800～900，而PVD方法可以达到Hv1500以上，同时耐磨性远优于电镀铬。PVD方法在涂层制备过程中涂层致密，没有孔洞，不会产生穿透性裂纹，导致腐蚀介质从表面渗透至界面而腐蚀基体，造成镀层表面出现锈斑甚至剥落。