PVD真空镀膜 由于原理的不同分为很多种类，其过程也非常复杂，但因为有一个共同点——都需要高真空度，而拥有统一名称。所以不同的工艺原理，影响均匀性的因素也不尽相同。且均匀性本身也会随着镀膜尺度和镀膜成分不同而不同。薄膜均匀性可简单分为以下几类：

厚度上的均匀性：也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜完全不影响原材质的性能。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在。

化学组成上的均匀性：就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程没有严格按照正确的比例，那么实际表面的组分就并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，因此镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。

晶格有序度的均匀性：这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题。

以上是PVD真空镀膜 的均匀性分类概述，如您还有其他分类的均匀性问题，欢迎致电讨论：18018742966。