磁控溅射镀膜 种类很多。各有不同作业原理和使用对象。但有一共同点：使用磁场与电场交互作用，使电子在靶外表邻近成螺旋状运行，然后电子撞击氩气发生离子的概率。所发生的离子在电场作用下撞向靶面然后溅射出靶材。

靶源分平衡式和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴依照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态磁控阴和非平衡态磁控阴。平衡态磁控阴内外磁钢的磁通量大致持平，南北磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体束缚在靶面邻近，添加了磕碰几率，进步了离化功率，因而在较低的作业气压和电压下就能起辉并维持辉光放电，靶材使用率相对较高。

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