先说下真空镀膜 和光学镀膜在镀膜概念的区别：

1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀钛、真空镀铬等。

2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层（或多层）金属（或介质）薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜（物理镀膜的一种）和化学镀膜。

真空镀膜 和光学镀膜膜厚的区别：真空镀膜一般金属材料电镀出来的膜厚度大概是3-5微米。光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。早期使用的是光控测试，现在一般用晶振片，使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。