你知道膜层均匀性的概念有多少种吗？下面让广州真空镀膜厂 给你大概科普一下吧！

1.厚度的均匀性也可以理解为粗糙度。在光学薄膜的尺度（1/10波长作为单位，约为100A)上来讲，真空镀膜膜层的均匀性相当好，可以很容易地将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，即真空镀膜的膜层对光学特性没有任何障碍。但如果是指原子层尺度的均匀性，也就是说要实现10A甚至1A表面平整，是真空涂层的主要技术含量和技术瓶颈。具体控制因素接下来会根据不同的镀膜工艺进行详细说明。

2.化学组分上的均匀性：

也就是说，在薄膜中，化合物的原子组分会容易因为尺度过小产生不均匀的特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，也许会是其他比例，镀膜不是预期膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量之处。

3.晶格有序度的均匀性：

晶格的均匀性，就决定了薄膜是单晶、多晶、非晶，是真空镀膜技术中的热点问题。主要分为蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜两大类，这两类包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束延伸、溶胶凝胶法等。

看了广州真空镀膜厂 对膜层均匀性概念的分享后，如您想了解更多有关于膜层方面的知识欢迎致电18018743855