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广东PVD镀膜厂中的物理过程和生产流程
来源: 时间:2021-11-18

广东PVD镀膜厂中PVD镀膜的物理过程

PVD(物理气相沉积技术)的基本概念可分成三个加工工艺流程:

(1)镀料的气化:即镀料的挥发,提升或被磁控溅射进而产生气化源;

(2)镀料粒子(原子,分子或离子)的转移:由气化源供出原子、分子或离子通过碰撞,造成多种多样反应;

(3)镀料粒子在基材片表面的堆积

广东PVD镀膜厂

薄膜的产生次序为:具备一定能量的原子被吸咐→产生小原子团→临界核→小岛→大岛→岛结合→沟道薄膜→连续薄膜。因而薄膜的产生全过程可分成四个环节;临界值核的产生;岛的产生,成长与融合;沟道薄膜的生成和持续膜的产生。

广东PVD镀膜厂中PVD镀膜的生产流程

PVD镀膜的生产流程先后一般为:前处理及化学清洗(表面抛光处理喷砂处理,防锈处理去油去空气氧化层)→工件在真空中烤制加温→氩离子辉光清理→金属材料离子轰击→电镀金属衔接层→表层的镀膜(进入反应气体)→后处理(炉内钝化或出炉后钝化处理去应力或防止变色,过UV做防指膜解决等)。

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