磁控溅射镀膜 工艺保持真空腔至关重要，尤其是保持溅射系统清洁。润滑油、灰尘和以前的涂层形成的任何残留物都会聚集水分和其他污染物，直接影响真空度并增加成膜失败的可能性。靶材短路或起弧、成膜表面粗糙、化学杂质含量过高等原因往往是溅射室、溅射枪、靶材不干净造成的。

1. 为保持镀层的成分特性，溅射气体（氩气或氧气）必须清洁干燥。基板安装在溅射室后，必须抽出空气以达到工艺所需的真空度。

2、暗区屏蔽罩、空腔壁、相邻面也需要保持清洁。清洁真空腔时，建议使用玻璃球抛丸法处理脏件。早期可使用压缩空气清除型腔周围的溅射残留物。

3. 使用目标时不要用手直接接触目标。在使用目标之前，请戴上干净且不起毛的防护手套。不要用手直接接触目标。

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