离子镀膜（PVD镀膜）技术从上世纪四十年代开始发展是最快的，到如今它已经成为了当代最先进的以电子学为中心的表面镀膜的新技术。真空蒸发镀膜是真空镀膜技术分类的其中之一，真空蒸发镀膜的膜层最主要是由温度决定的，温度的高低决定了膜层在到达被镀膜的基片上是否纯净和牢固，同时膜层也不至于被氧化PVD蒸发镀膜的基片表面状态对膜层的结构也有影响，制备膜层一般都要求性能稳定，更加耐磨损耐腐蚀性，与工件表面附着牢固。

PVD蒸发镀膜的一些金属蒸发温度是非常极高的，如常见的金属膜铝（Al)的蒸发温度是1148摄氏度、钛（Ti）的蒸发温度是1546摄氏度、钼（Mo）的蒸发温度是2533摄氏度等；还有一些碳化物膜（Tic)以及氧化物膜（Tio），它们的蒸发温度都在一千摄氏度以上甚至更高，这些蒸发物在高温真空的环境下依然会释放气体，从而导致镀膜空间内的压强发生变化，这样就会影响镀膜机所镀的膜层质量好坏。

真空蒸发镀膜的蒸发物种类很多，蒸发物所镀出来的膜层也可以镀成很多颜色，如我们常见的金色、灰色和黑色等；同样所镀膜层也可以在很多材料上进行镀膜，例如金属五金、陶瓷、玻璃等；如有想了解真空蒸发镀膜，欢迎致电：18018743855  0755-27865425