你听说过离子镀吗？真空镀膜加工 中的真空离子镀和普通离子镀有什么不一样呢？接下来小编就简要介绍下的这两种离子镀的区别吧！

蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子形态沉积在固体表面，称为离子镀，这种是普通的离子镀。真空离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。这种离子镀系统是将基体材料作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体(如氩)以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被负电压加速打到基体材料表面。未电离的中性原子也会沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用(离子能量约几百～几千电子伏)和氩离子对基片的溅射作用，使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发(高沉积速率)与溅射(良好的膜层附着力)工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。

以上就是真空镀膜加工 中的离子镀的优点及好处，如您有产品需要镀膜，欢迎致电我们：18018742966。