今天聊聊真空镀膜和光学镀膜 的方法和材料的区别有哪些?

1、真空镀膜的方法材料：

真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体（如氩）通入已抽空的室内，保持压强约1.33~13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。

2、常见的光学镀膜方法材料

氟化镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制光学镀膜可提高透过率，不出崩点。

二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

氧化锆：白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。

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