真空镀膜是指在真空条件下运用磁控溅射原理在工件表面沉积涂层的技术。真空镀膜工艺流程分以下几个步骤：

第一，工件外观检查。真空镀膜工艺涂层很薄，属于纳米级别的膜层，无法覆盖工件本身的瑕疵和缺陷，因此如果工件有外观要求，首先需要确保工件本身外观无缺陷；

第二，工件上架。该步骤是整个真空镀膜工艺流程中很重要的一个环节，除了避免工件在流通过程中的二次损伤外，还有很重要的一点需要考量，那就是工件之间的间距，必须保证溅射过程中无遮挡，同时考量装载量，节约真空镀膜工艺成本；

第三，清洗环节。该环节关乎膜层品质能否得到保障。真空镀膜工艺要求工件必须清洁，无油污、粉尘、杂质等，如果清洗不彻底，膜层就会假附着在脏污上，随着脏污被擦掉，膜层也会随之脱落；

第四，炉内真空镀膜环节，也是真空镀膜工艺核心技术环节。炉体清洁、入炉、抽真空、保温、开靶、充气等，很多镀膜厂家可实现真空镀膜工艺全自动化控制，比如森丰真空镀膜有限公司，智能控制镀膜参数，使得批次之间的色差得到很好的管控；

最后就是冷却出炉，检验工件颜色、外观、膜层厚度和信赖性测试等。

真空镀膜工艺流程较复杂，产品实现的流程耗时比较长，需要管控的环节较多。