在手表PVD真空镀膜厂工作最经常听到的一个词很有可能便是“磁控溅射”了，那什么是“磁控溅射”呢？今日就由我简易的解释一下“溅射”的含意吧！说白了“溅射”便是用荷能粒子(一般用气体共价键)撞击物件，进而造成物件表层原子从母体中逸出的状况。

早在1842年 Grove在试验室中就发觉了这类状况。运用溅射的基本原理制取薄膜是美国贝尔实验室及西屋电气公司在1877年最先运用的。在1940年之后，因为溅射膜层的特性愈来愈表明其优势，改进溅射装置，提升溅射速度的各种各样工艺相对应地获得迅速发展趋势，使溅射工艺在一些行业中做到了产品化水平。1966年美国国际商业计算机企业运用高频率溅射技术性做成了绝缘层膜。1970年磁控溅射技术性以及装置问世，它以其“高速”，“超低温两大特性使薄膜工艺发生了深入转变，不仅达到薄膜工艺愈来愈繁杂的规定，并且推动了新工艺的发展趋势。

在我国在1980年前后，很多企业竞先研发磁控溅射技术性。现阶段在磁控溅射装置和相对应的薄膜工艺科学研究上也已发现了生产性生产制造的局势。同样，应时代需求森丰手表PVD真空镀膜厂也研发了一套自己独特的磁控溅射技术，想更深入了解相关知识欢迎致电18018743855