PVD真空镀膜有装饰性和功能性两大类膜层。PVD真空镀膜装饰性膜层往往缺乏令人满意的耐蚀性。那么，如何改善PVD真空镀膜的耐蚀性呢？

首先，我们需要了解产生腐蚀的原因。PVD装饰性薄膜通常是生长的柱状微观结构，呈现多种生长缺陷，如柱缝、孔隙、晶界等。因此，它们并不能对腐蚀敏感的衬底进行充分的保护。一般来说，PVD真空镀膜膜层具有较高的电化学位，所以膜层本身有较高的耐蚀性，但是与膜层接触的各种电解质如水、汗液等容易穿透缺陷到达基体，电位高的膜层与电位低的基体经电解质导通形成原电池，导致电偶腐蚀，从而引起电化学位较低的基体很快发生腐蚀。如何优化PVD真空镀膜涂层沉积方法来提升产品耐蚀性，主要涉及厚和密。装饰性的PVD真空镀膜膜层一般不会超过5um. 这种厚度是无法提供有效的防腐保障的。而厚度的增加使PVD真空镀膜沉积时间过长，增加生产成本，另外一方面，厚度增加导致内应力升高，往往恶化附着力，导致涂层脱落。除此之外厚度的增加会造成PVD真空镀膜涂层表面粗糙度值增大，降低了表面的光泽度，影响PVD真空镀膜的装饰性能，因此通过增加厚度来提升PVD真空镀膜膜层的耐蚀性有点得不偿失。膜层缺陷导致电解质渗入是基材腐蚀主要原因，因此增加PVD真空镀膜涂层的致密性是提升其耐蚀性的主要方向。
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