PVD真空镀膜 的原理主要是物理气相沉积，这项技术是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理，就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材表面。

PVD真空镀膜具有沉积速度快和表面光滑易清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、抗氧化，抗腐蚀，耐磨损，化学性能稳定，抗酸，且可镀材料广泛，与基体结合力强等优点。森丰镀膜厂采用全球最先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备，在此基础之上还有自主的研发团队，研发出的产品荣获了国家多项专利证书。凭借在镀膜行业二十多年的宝贵经验，为客户提供专业的适合产品的加工方案，完全能达到PVD镀膜的优点。

PVD真空镀膜 森丰是专业的，欢迎莅临参观指导，预约热线：18018742966