PVD真空镀膜 是指在真空条件下，利用物理方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。PVD的特点是材料从凝相转变为气象，然后又回到薄膜凝相的过程。最常见的PVD工艺是溅射和蒸发。PVD薄膜制造用于机械、光学、化学或电子功能。包括半导体设备，例如薄膜太阳能电池板、用于食品包装和气球的镀铝PET膜、以及用于金属加工的氮化钛涂层切削工具。接下来就让小编就来说说PVD真空镀膜有哪些优点。

1，PVD涂层有时比电镀工艺应用的涂层更硬、更耐腐蚀。大多数涂料具有耐高温和良好的冲击强度、优异的耐磨性，并且非常耐用，很少需要保护性面漆。

2，能够在使用各种饰面的同样多样化的基材和表面上使用几乎任何类型的无机和一些有机材料。

3，比电镀、喷漆等传统涂装工艺更环保。

4，可以使用不止一种技术来沉积薄膜。

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