PVD真空电镀技术是真空应用技术的重要分支，已广泛应用于光学、电子学、能源开发、理化仪器、建筑机械、包装民用产品表面科学研究等领域。PVD真空电镀技术主要包括蒸发电镀、溅射电镀、离子电镀、束流沉积电镀和分子束延伸。此外，还有化学气相沉积法。如果真空电镀的目的是改变物质表面的物理、化学性能，那么该技术是真空表面处理技术的重要组成部分。现在简要介绍一下在元件方面的应用。

在元件方面，真空蒸发镍铬、铬或金属陶瓷可以产生电阻，铝、氧化硅、二氧化钛可以产生电容器，可用蒸发硒获得静电复印机的硒鼓，蒸发钛酸钡可以产生磁膨胀收缩声元件等。该方法还可以用来制备超导薄膜和惯性约束巨变反应的微珠电镀。

此外，智能穿戴、珠宝、钟表外壳表面、纺织金属图案、金丝、银丝等蒸汽装饰膜也可用于制造超硬膜、溅射镀或离子镀刀具和模具。钛产品近两年兴起，如不锈钢板、镜板、包柱、扶手、床架、楼梯栏杆等。

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