PVD镀膜技术基本方法真空蒸发、溅射 、离子镀，小编简要介绍几种常用的方法。

首先，电子束蒸发是PVD镀膜技术的基本方法之一。电子束蒸发是利用聚焦成束的电子束来加热蒸发源，使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。

第二，溅射沉积，溅射是与气体辉光放电相联系的一种薄膜沉积技术。PVD镀膜技术溅射的方法很多，有直流溅射、RF溅射和反应溅射等，而用得较多的是磁控溅射、中频溅射、直流溅射、RF溅射和离子束溅射。在真空室内充入放电所需要的惰性气体（如氩气），在高压电场作用下气体分子因电离而产生大量正离子。带电离子被强电场加速，便形成高能量的离子流轰击蒸发源材料（称为靶）。在离子轰击下，蒸发源材料的原子将离开固体表面，以高速度溅射到基片上并沉积成薄膜。

第三，RF（射频）溅射也是一种常见的PVD镀膜技术，RF溅射不仅可以沉积金属膜，而且可以沉积多种材料的绝缘介质膜，因而使用范围较广。

第四，电弧离子镀，阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积，该技术材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。

第五，离子束也是一种重要的PVD镀膜技术。离子束加工是在真空条件下，先由电子枪产生电子束，再引入已抽成真空且充满惰性气体之电离室中，使低压惰性气体离子化。由负极引出阳离子又经加速、集束等步骤，获得具有一定速度的离子投射到材料表面，产生溅射效应和注入效应。由于离子带正电荷，其质量比电子大数千、数万倍，所以离子束比电子束具有更大的撞击动能，是靠微观的机械撞击能量来加工的。

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