广东PVD镀膜厂中PVD镀膜的物理过程

PVD（物理气相沉积技术）的基本概念可分成三个加工工艺流程：

（1）镀料的气化：即镀料的挥发，提升或被磁控溅射进而产生气化源；

（2）镀料粒子（原子，分子或离子）的转移：由气化源供出原子、分子或离子通过碰撞，造成多种多样反应；

（3）镀料粒子在基材片表面的堆积

薄膜的产生次序为：具备一定能量的原子被吸咐→产生小原子团→临界核→小岛→大岛→岛结合→沟道薄膜→连续薄膜。因而薄膜的产生全过程可分成四个环节；临界值核的产生；岛的产生，成长与融合；沟道薄膜的生成和持续膜的产生。

广东PVD镀膜厂中PVD镀膜的生产流程

PVD镀膜的生产流程先后一般为：前处理及化学清洗（表面抛光处理喷砂处理，防锈处理去油去空气氧化层）→工件在真空中烤制加温→氩离子辉光清理→金属材料离子轰击→电镀金属衔接层→表层的镀膜（进入反应气体）→后处理（炉内钝化或出炉后钝化处理去应力或防止变色，过UV做防指膜解决等）。

以上就是广东PVD镀膜厂中的物理过程和生产流程，如有需求，欢迎咨询森丰PVD镀膜厂：18018743855   0755-27865425