氮化钛涂层 具有熔点高，化学稳定性好，硬度大，导电、导热和光性能好等，使其在各个领域都有着非常重要的用途，尤其是在新型金属陶瓷领域和代金装饰领域方面。

常用的溅射氮化钛涂层是入射粒子和靶碰撞，靶原子被撞后，获得满足能量，脱离靶材，堆积于基体上。为了提高溅射功率，加入了磁控技术。选用的磁控溅射源中的磁场为均匀关闭磁场的方法，此方法被称作平衡磁控溅射法。此方法无论是平面靶仍是柱状靶，都是使用平行于靶面的磁场分量来约束二次电子在靶面做螺旋线运动。以此提高氩气的离子化率和提高溅射速率。

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