磁控溅射是一种物理气相沉积 (PVD) 工艺，凭借细腻美观的效果和环保的特性，目前已经成为装饰性镀膜技术的主流，在手表、手机、智能穿戴、五金配饰、首饰及汽车零配件等领域得到广泛的运用。磁控溅射整个流程较长，在实际生产中会遇到一系列问题，森丰小编今天给大家分享一些磁控溅射中常见的问题及解决办法：

       首先，磁控溅射出来的膜层暗淡无光泽。光泽度是许多装饰性配件必备的外观特性，因此磁控溅射中需要适当缩短溅射时间、把握好沉积时间和电流电压参数，以便获得有质感和光泽度的膜层；第二，膜层颜色不均匀，磁控溅射对工件的结构有要求，如果结构太过复杂，则很难解决颜色均匀性问题，不过可以在上架治具上下功夫来改进膜层均匀性；第三，涂层起皱、开裂，可能是因为涂层太厚，应适当缩短磁控溅射时间，或者溅射温度过高；第四，涂层表面有水圈印、指纹或者脏污，这些主要是前制程管控不到位导致的不良形态，需要在磁控溅射之前将产品清洗干净并充分干燥，做好清洗后产品的防护防止二次污染，并且保证产品处于无尘的工作环境。

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