磁控溅射技术 沉积的膜层均匀、致密、针孔少，纯度高，附着力强，可以在低温、低损伤的条件下实现高速沉积各种材料薄膜，已经成为当今真空镀膜中的一种成熟技术与工业化的生产方式。磁控溅射技术就是利用电磁场来控制真空腔体内气体“异常辉光放电”中离子、电子的运动轨迹及分布状况的溅射镀膜的工艺过程。

镀金属膜时，一般用氩气作为工作气体，它是惰性气体，在真空状态下加热基片时不会发生氧化作用；

氧气一般用于镀非金属膜，如TiO2，不必担心镀好膜后发生膜氧化现象；

氮气是在换靶镀膜时往真空室冲入的气体，让真空室内压强和大气压强保持相等，才能开盖换靶镀另一层膜。

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