真空蒸发镀膜机原料也称之为真空镀膜机用“源化合物”，重要分为两类：一是真空蒸发法表面的表层的镀膜用的源化合物：蒸发原料，二是机械泵磁控溅射法表面的表层的镀膜用的源化合物：溅射靶材。

        真空蒸发镀膜表面的表层的镀膜的物理学整个过程：1．采用多种不同的发热量转换方式，使镀膜材料颗粒物蒸发或提高，称作具有一定机械能的汽态颗粒物。2．汽态颗粒依据单晶硅片无碰撞的匀速直线运动方式传输到板材上。3. 颗粒物沉积在身体表面上并凝固涂层。4、构成塑料膜的分子结构再次排列并造成化学变化。塑料膜沉积的厚薄均匀性是一个经常务必考虑的问题，而且务必此外沉积的区域越大，则沉积的效率性会难得到保证，因而点挥起源所相对应的沉积均匀性稍微好于面挥起源的情况。

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